Pelat Kromium

Di bidang pelapisan vakum, manufaktur semikonduktor, serta penelitian dan pengembangan-paduan berperforma tinggi, kemurnian dan kerataan material secara langsung menentukan pembentukan film pada produk akhir. Pelat Kromium, dengan titik leleh hingga 1907 derajat dan ketahanan terhadap korosi yang sangat baik, menjadi substrat logam "kelas strategis" yang tak tergantikan dalam-industri teknologi tinggi global.

1. Kinerja inti: gen fisik yang tidak dapat dihancurkan

Kromium (Cr) tidak hanya memberikan kilau putih keperakan-yang glamor pada material, namun juga membangun sistem pertahanan yang kuat pada tingkat mikro:

Ketahanan oksidasi yang sangat baik: Permukaan membentuk lapisan pasivasi padat dengan cepat pada kondisi suhu kamar, yang secara efektif dapat menahan oksidasi dan erosi asam-basa bahkan pada suhu tinggi.

Kekerasan tinggi dan ketahanan aus: Kekerasan Mohs setinggi 8,5, sehingga permukaannya tetap rata saat dicuci secara fisik.

Stabilitas vakum yang sangat baik: Tekanan uap yang sangat rendah memastikan tidak akan melepaskan gas pengotor di ruang vakum ultra{0}}tinggi.

2. Komposisi kimia dan indikator teknis (Kemurnian Ultra-Tinggi)

Kami mengadopsi proses pemurnian elektrolitik dan peleburan vakum yang canggih untuk meminimalkan pengotor berbahaya seperti oksigen, nitrogen, dan hidrogen.

3. Proses lean: dari blanko padat hingga pelat presisi

Kelahiran setiap pelat kromium telah melalui proses yang ketat dan tertutup:

Pengepresan isostatik bertekanan tinggi (HIP): Menghilangkan pori-pori mikroskopis di dalam billet untuk memastikan pengorganisasian yang padat dan seragam.

Penggulungan panas/dingin multi-pass: Orientasi butir dan kerataan permukaan yang sangat baik melalui kontrol reduksi yang presisi.

Penghilang stres vakum: Proses anil yang unik memastikan bahwa pelat tidak akan melengkung selama pemesinan atau sputtering berikutnya.

4. Spesifikasi produk dan parameter dasar (Dapat Disesuaikan)

Kami menyediakan dukungan ukuran lengkap mulai dari lembar eksperimen mini hingga-target industri dengan area luas:

Ketebalan: 1,0 mm-20 mm (Disesuaikan sesuai permintaan atau gambar)

Lebar (Lebar): 5-200mm, Hingga 500 mm

Panjang: Hingga 1500mm

Kerataan: Kurang dari 0,2 mm

Toleransi: Dalam ± 0,1 mm (Maksimal hingga ± 0,05 mm untuk tingkat presisi)

5. Perawatan permukaan: keselarasan dan kesatuan permukaan dan fungsi cermin

Tanah: Menghilangkan tekstur bergulir pada permukaan untuk memberikan permukaan fisik yang konsisten.

Dipoles: Permukaan akhir bisa mencapai Ra 0,4 um atau lebih, namun mungkin ada risiko timbulnya busur api.

Pembersihan ultrasonik: Diselesaikan di ruang pohon setinggi 10.000-debu-untuk menghilangkan semua sisa cairan pemotongan dan memastikan siap-untuk digunakan.

6. Kekuatan inti: Mengapa insinyur senior lebih memilih pelat krom kami?

Teknologi pemurnian butiran: Pelat kromium yang kami produksi memiliki butiran mikroskopis halus yang seragam (ukuran partikel rata-rata Kurang dari atau sama dengan 100 um), yang berarti laju pembentukan lapisan film yang lebih seragam bila digunakan sebagai target sputtering.

Kompatibilitas pengikatan yang sangat tinggi: Proses perawatan bagian belakang yang dioptimalkan membuat tingkat pengikatan pengelasan indium dengan bidang belakang tembaga mencapai 98%.

Ketertelusuran siklus hidup penuh: Setiap batch dilengkapi dengan MTC (laporan material) lengkap dan laporan deteksi cacat ultrasonik.

7. Area penerapan: Meliputi-cetak biru industri paling mutakhir

Target sputtering PVD/CVD: pembuatan lapisan penghalang, garis gerbang pada layar panel datar (FPD).

Lapisan dekoratif: Untuk perangkat elektronik konsumen,-perangkat keras bermutu tinggi untuk memberikan lapisan-perak yang tidak pudar-tahan aus.

Perangkat semikonduktor: pembuatan lapisan film utama untuk-masker Foto.

Penelitian-paduan super: Sebagai bahan aditif dasar untuk penelitian dan pengembangan baja tahan karat-performa tinggi dan paduan-super.