Butiran Zirkonium

Pelet Zirkonium-Kemurnian Tinggi: sumber kemurnian untuk lapisan vakum-area tinggi-yang luas dan peleburan khusus.

Dalam proses penguapan vakum film tipis optik, pengendapan lapisan penghalang semikonduktor, dan peleburan paduan super{0}}khusus, kemurnian mikroskopis dan konsistensi morfologi bahan secara langsung menentukan hasil produk akhir. Pelet Zirkonium (Butiran Zirkonium) dengan kemurnian tinggi, dengan kepadatan curah yang sangat baik, laju pelepasan gas yang rendah, dan kelembaman kimia melebihi logam konvensional, menjadi "sumber emas" yang sangat diperlukan dalam proses pelapisan dan peleburan mutakhir di dunia.

1. Performa dasar: benturan fisik antara-perlindungan penyembuhan diri dan penghematan neutron termal

Partikel zirkonium (Zr) menunjukkan estetika material yang unik dalam morfologi mikroskopis:

Stabilitas vakum yang sangat baik: Zirkonium memiliki titik leleh yang tinggi (~ 1852 derajat ) dan tekanan uap yang sangat rendah pada suhu tinggi, memastikan stabilitas hidrodinamik yang sangat tinggi ketika digunakan sebagai bahan evaporasi dalam vakum ultra-tinggi.

Laju pelepasan gas keluar yang sangat rendah-dan rendah: Partikel zirkonium yang telah dihilangkan gasnya secara mendalam dapat secara efektif menghindari fenomena "ledakan" atau "meludah" yang disebabkan oleh pelepasan gas jejak di dalamnya ketika dibombardir oleh berkas elektron atau dipanaskan oleh hambatan, sehingga memastikan keseragaman pembentukan lapisan film.

Ketahanan korosi yang tak tertandingi: Lapisan pasivasi ZrO2 skala nano alami yang terbentuk di permukaan membuatnya benar-benar bebas dari kelembapan dan erosi asam-basa selama penyimpanan dan transportasi.

2. Pengendalian Pengotor Kimia

Unsur gas berbahaya (O, N, H) dan unsur logam transisi (Fe, Ni, Cr) dikendalikan pada ambang batas yang sangat rendah melalui peleburan berkas elektron vakum dan teknologi geser presisi.

Tingkat Kemurnian	Zr + Hf (%)	Hf (%)	Fe + Cr (ppm)	HAI (ppm)	N (ppm)	H (ppm)
Kelas Industri (R60702)	Lebih besar dari atau sama dengan99.2	Kurang dari atau sama dengan4.5	Kurang dari atau sama dengan2000	Kurang dari atau sama dengan1600	Kurang dari atau sama dengan250	Kurang dari atau sama dengan50
Kelas Listrik/Nuklir(R60704)	Lebih besar dari atau sama dengan99.5	Kurang dari atau sama dengan0.01	Kurang dari atau sama dengan1500	Kurang dari atau sama dengan1000	Kurang dari atau sama dengan150	Kurang dari atau sama dengan25
Kelas Sangat Tinggi (4N)	Lebih besar dari atau sama dengan99.99	Kurang dari atau sama dengan0.005	Kurang dari atau sama dengan50	Kurang dari atau sama dengan200	Kurang dari atau sama dengan30	Kurang dari atau sama dengan10

Standar teknis: Membandingkan secara ketat standar ASTM B550/B550M dan spesifikasi material semikonduktor-berkualitas tinggi-kemurnian.

3. Proses lean: dari kristal padat hingga partikel padat

Peleburan berkas elektron vakum bertingkat (VIM/EBM): Memurnikan ingot zirkonium berulang kali untuk menghilangkan kotoran dan gas dengan titik didih rendah sepenuhnya.

Penarikan dingin dan pemotongan-bebas minyak: batangan zirkonium dengan kemurnian tinggi-diproses menjadi batangan kawat dengan diameter tertentu, lalu dipotong secara kuantitatif dengan tepi geser berlian khusus.

Seluruh proses menghilangkan pelumas hidrokarbon untuk mencegah polusi karbon.

Pemurnian permukaan ultrasonik: pengawetan kimia multi-pass dan pencucian air deionisasi ultrasonik digunakan untuk memastikan permukaan partikel mencapai kondisi "tanpa residu".

4. Spesifikasi produk dan parameter informasi dasar

Untuk mencocokkan ukuran evaporator, wadah, dan tungku yang berbeda, kami menawarkan berbagai spesifikasi standar:

Spesifikasi konvensional (diameter x panjang):

φ 3mm x φ 3mm (paling umum digunakan untuk penguapan berkas elektron)

φ 6mm x φ 6mm

φ10mm x φ 10mm (cocok untuk peleburan dan penambahan kapasitas-tinggi)

Bentuk butiran: Pelet Silinder biasa atau Butiran/Biji-bijian biasa.

Pengepakan: 100% pengisian argon, kemasan kantong plastik lapis ganda anti-vakum statis-, masing-masing kantong 1kg atau 5kg.

5. Perawatan permukaan: kecerahan tinggi dan tolok ukur industri nol karbon

Terang Dibersihkan: Permukaan partikel menghadirkan kilau metalik abu-abu perak cerah, menghilangkan sepenuhnya tanda tekanan mekanis sisa dan lapisan kaya oksigen di permukaan.

Pengeringan vakum tinggi: Pengeringan vakum 10-4 Pa sebelum pengemasan untuk mencegah sisa kelembapan menempel.

6. Keunggulan inti produk: Mengapa teknisi evaporasi menyukai partikel zirkonium kami?

Kepadatan Pengepakan yang Sangat Baik (Kepadatan Pengepakan): Desain silinder biasa membuat Kepadatan Pengepakan di kapal evaporasi atau wadah lebih dari 25% lebih tinggi dibandingkan dengan puing-puing tidak beraturan, dan konduksi panas lebih seragam.

Teknologi kontrol hafnium tingkat-nuklir (Kontrol-Hf Rendah): Untuk kebutuhan energi optik dan atom khusus, kita dapat mengompresi elemen simbiosis hafnium (Hf) alami hingga di bawah 50 ppm untuk memastikan bahwa penampang neutron dan transmitansi optik berada dalam keseimbangan emas.

Stabilitas batch yang sempurna: Geometri yang stabil memastikan bahwa fokus dan kurva daya pemboman berkas elektron tidak diperlukan setelah setiap pengumpanan, yang sangat meningkatkan hasil pengoperasian jalur pelapisan otomatis.

7. Area penerapan:-cetak biru mutakhir

Lapisan vakum optik: pembuatan film anti-pantulan, filter, reflektor tinggi, dan film pelindung keras anti-korosi (seperti pendahulu film optik zirkonia).

Semikonduktor dan komponen elektronik: sebagai sumber penguapan untuk target sputtering di sirkuit terpadu (IC) dan kemasan canggih, atau sebagai penghalang anti{0}}difusi.

Peleburan-paduan super khusus: Sebagai aditif presisi untuk paduan titanium, paduan-super-berbasis nikel, dan bahan superkonduktor.

Bahan pengambil: Sebagai Pengambil-efisiensi tinggi dalam-tabung elektron vakum tinggi dan rongga vakum ultra-tinggi untuk menyerap sisa gas pengotor.